蘇揚看了半秒劉元龍，道：“這些設備，的確是最新的半導體核心設備，尤其是光刻機。”
說著，指著光刻機道：“這臺光刻機里面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。”
蘇揚繼續道：“另外，掩膜臺的運動控制精度達到納米級，物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最先進的產品。”
“當然，最主要的還是這臺光刻機的光源，并非是目前國際國內流行的深紫外光。”
“所采用的光是13.5nm的軟X射線，也就是極紫外光作為光源。”
蘇揚的話音落下。
現場陡然變得一片寂靜。
四名高冷的保鏢們不知所云，作為退役的軍人，他們對這些科技玩意兒一無所知，完全聽得云里霧里。
但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又覺得boss的話不明覺厲。
短暫的寂靜之后，便是一片嘩然，安正國等七人議論紛紛。
“這……”
“采用的是13.5nm的極紫外光？”
“怎么可能，我前兩天才剛剛看的新聞，尼康公司的光刻機，也才在準備進發32nm半導體工藝，而光源依舊用的是193nm的深紫外光啊！”
“是啊，曝光波長一下子降到13.5nm，這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸了！！！”
“蘇總，您別不是在逗我們開心啊，現在全球范圍內，絕對沒有任何一家半導體公司，能造出這樣的設備！”
“蘇總，這到底是真是假啊！”
幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。
作為半導體制造業皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。
芯片在生產中需要進行20-30次的光刻，耗時占到IC生產環節的50%左右，占芯片生產成本的三分之一。
通常意義上來說，只要解決光刻機的問題，那么芯片制造的工程，就完結了一半。
因此，也不怪幾個搞半導體的家伙，像是癡·漢一樣看著他。
蘇揚笑道：“行了，你們也別這樣看我，是真是假，我嘴上說了也沒用，召集人員進行一次實驗，不就一目了然了？安總，工廠內應該是有光刻膠和硅片的吧？”
安正國一愣，連忙道：“有，都儲存著呢，我馬上找人來進行實驗。”
說著，安正國立刻召集人手，搬來相應的半導體材料。
半導體芯片生產主要分為IC設計、IC制造、IC封測三大環節。
所謂IC，就是集成電路的英文簡寫。
IC設計是高端技術，也是inter等公司，能屹立于半導體行業巔峰最重要的因素之一。
主要根據芯片的設計目的，進行邏輯設計和規則制定，并根據設計圖制作掩模，以供后續光刻步驟使用。
而IC制造，就是半導體芯片的制造了。
一般，要實現芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上，并實現預定的芯片功能。
包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。
至于IC封測，就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試，是產品交付前的最后工序。
IC設計就不提了，蘇揚有蘋果A6處理器的技術，其中就包括了32nm芯片的設計。
另外，商城掛著的inter酷睿系列，也有45nm——14nm芯片的工藝技術。
而在IC制造中，光刻又是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。