其中的難點和關鍵點，在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上。
這一過程，目前只能通過光刻，才能最有效地實現。
所以，光刻的工藝水平，往往直接決定了芯片的制程水平和性能水平。
安正國找來技術人員和材料，在蘇揚的指導下，這些專業生產芯片的員工，初步了解到這臺光刻機的使用流程。
光刻的原理，實際上非常簡單。
在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光線透過掩模照射在硅片表面。
被光線照射到的光刻膠，會發生反應。
此后，再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到硅片的轉移。
這和華夏古代的印刷術，實際上有一些相似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。
一般的光刻步驟，有氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。
接著，就是進行檢測，主要是顯影檢測，讓合規的硅片進入后續的蝕刻流程。
所謂蝕刻，便是通過化學或物理的方法，有選擇地從硅片表面，除去不需要材料的過程。
完成之后，就能通過特定溶劑，洗去硅片表面殘余的光刻膠了。
當然，這是最簡易的光刻步驟，在實際生產制造中，比這復雜了上百倍。
從開始光刻，到最后洗去殘余的光刻膠，幾個步驟，就足足花了三個多小時。
當然，這里面也有一些員工剛剛接觸新設備，操作不順手的因素。
當時間來到下午四點半的時候。
車間內，一片驚喜和歡騰的景象。
“出來了，居然真的做出來了！”
“60nm的電路圖，居然真的被我們轉移到了硅片上。”
“不可思議啊！全華夏能做60nm芯片的企業，不超過三家，而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術，還是在實驗室里！做到量產的話，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”
“是啊，而我們現在，卻擁有了一臺可以量產60nm芯片的光刻機，如果操作熟練了，速度提上去，再進行交替光刻，一天至少可以造上數百片12寸的圓晶啊！”
“這是一個突破，了不起的突破，如果我們把這里發生的事情，宣布出去，足以震驚整個華夏，乃至是中央都要被驚動！”
華夏在半導體行業，被壓了太多年了。
從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股后面跑，說是向人家乞討技術也不為過。
雖然60nm芯片的量產，和45nm芯片的量產，還有一定的差距。
但是，在工藝水平上，也能證明華夏沒比inter等落后太多了。
這是一個十分漲士氣的突破。
一旁，劉元龍沉聲道：“各位，你們難道沒有意識到嗎？剛才我們用的，只是這臺光刻機最底線的精度！”
這話一出，幾名興奮的家伙，立刻止住了話音，轉而張了張嘴巴，眼睛立刻掙得大大的。
“是啊，剛才用的還是最低的精度！”
“沒錯，往上一個刻度的話，豈不是意味著……45nm甚至32nm的芯片也有可能了？”
“不對，我之前看過一篇學術報告，EUV光刻技術的真正領域，是32nm，不，是22nm以下的領域！”
“22nm以下，這……這也太瘋狂了吧。”
“……”