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                    筆趣閣 > 科幻小說 > 學霸型科技大佬 > 第352章 又一個重要節點

                    第352章 又一個重要節點(3 / 4)

                    加深了相互緊密的關系。

                    云服務市場,在美洲歐洲等一些地方,為夢與飛思、搜一下開始準備,全面奪取亞馬孫、桃子等企業的市場。

                    后者,競爭對手,被打的節節敗退。

                    其次,智能手機市場、為夢完全采用靈氣OS,不再進行個性化自我改制。超低端市場,完全采用安卓OS。

                    并且,他們將獲得一部分應用市場的,在美洲的管理使用、以及利潤!

                    桃子手機等變成了極為小眾的東西。

                    智能手機市場的新一輪洗牌,在逐漸完成。未來、為夢、花微、斯瑞星、將形成三足鼎立之局面。

                    其余小廠商,全面淘汰,一部分依靠中低端市場,跟著三位霸主,彌補他們的市場空隙。

                    至于四葉草,是無可動搖的奢侈品!他們,和靈泉配合,一前一后,做標準!

                    當然,目前為止,這些事情,仍然在進行當中。

                    需要一兩年時間來逐漸穩定,新的智能手機市場體系才會徹底形成。

                    不過,許多個企業,已經紛紛感受到了新啟天體系動作,帶來的巨大壓力。

                    桃子的驕布斯、黑莓、摩托摩拉、亞馬遜等等公司董事會上,眾人已經把辛啟天罵了個狗血淋頭。

                    這樣的好事,辛啟天從音頻視頻上,了解許多。

                    看的他哈哈大笑,絲毫不在意。

                    七月中旬,已經回到申河的辛啟天,帶領數名啟天科技兄弟姐妹,在相關領導陪同下,正在參觀且指導申河微電子裝備公司。

                    這家公司坐落于關湖高科技園區,與靈泉總部同屬一個區域。

                    關湖高科技園區是老牌的高科技工業園區,面積極大。

                    啟天科技園,從體系上更加獨立。除了啟天科技之外,基本沒有其他公司,地區很小。可是,支持力度很大。

                    畢竟是搞出了量算的超級掛逼嘛。

                    申河微電子裝備,是02年才組建的集團。鄰近于好幾個國家級基地。

                    目前來說,申河其實是華國半導體產業鏈最為完善的地方。當然,所謂的完善是相對的。和西方發達國家是比不了的。

                    此次這家企業,與許多機構、包括啟天科技,智造公司合作。

                    將是光刻機設備的重要生產開發單位之一。

                    很多人可能不知道。事實上,華國早在60年代就曾,自主探索光刻機領域,且制造技術在當時世界各國中較為先進。

                    那時如今的光刻機巨頭A**L還沒誕生。杰奔的Nikon和Canon于也僅僅,是60年代末才開始進入這個領域。

                    62年華國第一代硅平面晶體管問世。

                    平面工藝,主要就是利用光刻技術,和二氧化硅膜的掩蔽作用,來進行選擇擴散和電極的蒸發。

                    隨之而來的是65年,華國第一塊集成電路問世。

                    基本說明,華國利用光刻技術,制造集成電路的時間線,可以推到60年代中期。

                    可見,華國光刻工藝的研究,雖比優絲稍晚,但跟杰奔差不多同時起步。

                    比麗棒、以及兩制的太直島早10年!

                    到70年代,華國電子元件的規模制造已在好些個城市開展。

                    72年,江城無線電元件三廠編寫出版了《光刻掩模版的制造》。

                    65年,科學院研制出65型接觸式光刻機。

                    隨后,申河光學機械廠也試制成功了半自動接觸式光刻機。

                    70年代,科學院開始研制計算機輔助光刻掩模工藝。

                    70年代末,科學院半導體所,開始研制JK-1型半自動接近式光刻機。并在81年研制成功兩臺樣機,而且還在生產線中投入使用!

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