對于星辰的猜測，晨晨沒有回答，是因為，自己這個目標并不明確。
因為在地球當前的政治格局下，即便是自己想要去做，有很多東西也是無法完成的。
在一個沒有統一政府的星球上，如何進行下一階段的文明推進，陳晨沒有想過的經驗。
所以暫時只能走一步算一步。
陳晨和星辰商議決定之后，星辰用了大約3個小時的時間，把處理器和基帶等其他功能模塊，全部整合完成，并且進行了多次模擬測試，確保完全沒有任何問題。
然后把所有資料，還有一整套的5g通訊標準文件，一起發給了陳建生，讓他找時間，把處理器交給intel生產，然后拿著5g通訊標準，去準備參加今年的通信行業大會。
一般來說，一家芯片代工廠，從客戶那里獲得一個芯片生產訂單開始算起.
需要在60天內為該客戶生產完所有硅片，這些硅片經過封裝和測試等環節后，大約又需耗時一個月。
也就是說，從開工到出廠，至少需要8090天。
時間是有些長，主要是因為，目前所用的，成熟的光刻機193i，已經用了很多年了，本身精度非常低，要用來生產14nm的芯片，需要就過多重復雜的技術增加精度。
傳統工藝，做到10nm，已經基本上是極限了，想要繼續下探，到7nm、5nm，就必須換新技術。
這個新技術，也就是intel、三星、臺積電，都在等著euv極紫外光刻技術。采用波長13.5nm的極紫外光為工作波長的投影光刻技術
因為更高的精度，可以大大減少工藝流程和復雜度。
所以如果euv光刻技術能夠成熟，并且投入量產，芯片的生產時間，將會大幅縮短，產品良率也會提高很多。
按照現在的預計，使用euv技術的工廠，最快可以做到20多天出廠，時間只有傳統光刻技術的四分之一。
但是目前evu技術并沒有成熟，仍然有多個關鍵問題沒有解決。
intel、三星、臺積電半導體三巨頭，投了巨額資金，給全球頂級的光刻機廠家asml，用來開發euv技術，以期維持半導體行業的持續發展。
euv技術是延續摩爾定律，讓7nm、5nm工藝，成功量產的希望。
而且，euv技術，也是東華國內半導體制作技術，實現彎道超車的機會，超越國際的難得機會。
在傳統工藝上，東華已經難以超過西方了，即便是超過，也馬上就要過時，只能用來生產低級芯片。
東華在上個世紀九十年代，就開始進行euv相關方面的研究。
2002年，研制出國內第一套euv極紫外光刻原理裝置。
2008年，在中科院的主導下，已經多家高校和科研機構參與到研究中，
2017年，euv極紫外光刻關鍵技術研究，已經到了最后攻關階段，即將進行項目驗收。
實際上，這個時候，單純的在euv的光刻機技術上，是東華和國際最近的一次，已經幾乎在同一代以內了。
而且關鍵是，但凡國內搞技術攻關，必然是要做一整套的技術。
包括生產過程中用的各種材料與設備，都會進行整體的技術攻關，因為不自己弄，其他的設備和工藝，沒有人會賣給你。