實時動態補償？
梁孟松當然知道這個解決方案。
類似的方案在半導體領域就有應用。
“我們已經安裝了大量的傳感器，但它們只是在記錄溫度和振動。
我要你重新編寫算法，讓它們成為預測和修正的神經系統。
將光刻機的關鍵參數與環境傳感器數據直接掛鉤。
基于過去數千時的良率數據，建立一個預測模型，在環境變化尚未對光刻膠產生影響之前，模型就提前預測出焦點將要發生的漂移量。
最后利用cg-1內部自帶的高速微致動器，在微秒級別內，動態微調透鏡組的位置，以抵消環境變化帶來的光學失真。
這就像一個外科醫生在抖動的手術臺上，依靠神經反射保持手部穩定。
這樣一來，光刻機就不再追求靜止的完美，而是追求動態中的完美。
環境越不穩定，我們的補償系統就越有價值。”
林燃停頓片刻后道：
“這套動態系統一旦成熟，不僅能夠激活4n的潛力，解決你現在所面臨的問題，而且能夠把我們7n產線的良率再往上推一大截，和臺積電7n制程的良率達到一致。”
梁孟松聽完，他立刻明白了林燃的意圖：不是去戰勝自然法則，而是去適應它，并利用數據和算法來駕馭它。
“動態補償……”梁孟松喃喃自語，眼中精光閃爍，“用軟件和算法去彌補硬件上的不足。用我們最擅長的信息技術去解決他們引以為傲的精密光學問題。”
他臉上興奮的表情只出現了很短暫的時間。
很快表情就轉變成工匠的嚴謹和質疑。
浸淫半導體行業數十年，梁孟松當然知道“實時動態補償”的概念，但他更清楚，將這項技術應用于cg-1這類光刻機上的難度，簡直是幾何級數的提升。
“林總，動態補償從理論上而言當然可行，但我們都很清楚，您也親自參與過我們生產線的構建，您很清楚理論上可行和實際工程上地之間的差距。
很多時候他們之間很可能橫亙著馬里亞納海溝。”梁孟松的語氣變得急切，他必須讓林燃明白其中的巨大工程鴻溝。
“在實際的工業中，動態補償在半導體領域也有應用，但那些場景的時間常數和運動幅度，與光刻機核心曝光的場景完全不同。”
“最常見的應用之一是cmp，也就是我們俗稱的化學機械平坦化。
在cmp設備中，我們使用實時監測來調整研磨力的壓力分布，以補償晶圓在研磨過程中厚度的不均勻性。
這個過程是低速的，調整頻率可能在秒級甚至分鐘級。
設備有足夠的時間去采集數據、計算修正量，然后執行。
另一個我能立刻想到的應用場景是等離子刻蝕。
我們會在刻蝕腔內用光譜儀實時監測等離子體的狀態，然后微調氣體流量或射頻功率，以補償刻蝕速率的漂移。
這個反饋頻率可能達到毫秒級，但它修正的是化學環境，不是直接修正光學焦距。”