郝強來到ebl光刻機實驗室，指導員工研發7nebl光刻機。
項目組某一位技術專家看到董事長到來，眼前一亮，上前跟他匯報：“董事長，您來了。”
“嗯，現在你們碰到什么較難解決的技術問題？”郝強直入話題。
“我自己這邊統計了一下，目前有三個最難解決的難題。”這位技術專家娓娓道來，“第一點，分辨率與精度。
7n級別的光刻需要更高的分辨率和精確度，以確保電路的功能和性能，制造更小的特征需要克服物理和化學限制。”
7n比14n，也就意味著使用更小的“畫筆”。
設計同樣的芯片，所使用的畫板（晶圓面積）就更小，即芯片更小，往著更精密的方向發展。
專家看到郝強點頭，接著說道：“第二點，圖案轉移與對準。”
在7n工藝中，圖案轉移的準確性至關重要，任何微小的對準誤差都可能導致電路功能失效。
精確的對準和圖案重疊技術是研發中的難點。
公司在研發ebl光刻機時，已經解決了這個主要問題。
當然，隨著技術的提升，要求更高。
原來的14nebl光刻機，大部分部件是可以應用在7nebl光刻機上面的，但有些零部件需要換成更先進的。
郝強傾聽完技術專家的訴說后，耐心地逐一進行講解。
在一般情況下，技術人員所面臨的問題通常不需要他親自出面解決。
然而，當技術專家們碰到無法克服的難題時，往往是團隊也難以應對的復雜問題，這時郝強便不得不親自出馬。
否則，問題的解決將會拖延很長時間，甚至可能導致整個項目的進度受到影響。
集團的員工們都知道董事長工作繁忙，因此很少有人會貿然跑到他的辦公室尋求幫助。
然而，郝強此時來到實驗室，明顯表明了他是為了專門解決技術問題而來。
在實驗室的氛圍中，濃厚的科研氣息彌漫開來，設備的嗡鳴聲和團隊成員的討論聲交織在一起，創造出一種緊張而充滿活力的工作環境。
技術專家剛才看到郝強的身影時，心中不禁生出一絲欣喜。
他原本打算慢慢與團隊一道解決這些技術難題，但現在看來，郝強的到來無疑是一個轉機。
作為在公司內最受尊敬的領導者，郝強的能力一直是個迷。
他的每一次出手，往往都能快速而有效地找到問題的癥結所在，給出最佳的解決方案。
在這個時候，最好的答案似乎恰恰就在郝強身上。
他的到來，無疑為團隊注入了強心劑，激發了大家的士氣。
僅僅一會兒后，這位技術專家聽完郝強的講解，他就梳理清晰解決方案。
接著，
郝強巡查7ebl光刻機的研發進展。
未來科技集團的光刻機一直以來都籠罩在神秘的面紗之下，外界對其具體類型和技術細節知之甚少。
除了芯片生產部門和研發團隊的核心人員之外，集團內其他部門的員工也對這具體技術并不知。
未來科技集團以14納米工藝制程芯片起步，迅速引起了行業內外的震驚與關注。