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                    筆趣閣 > 科幻小說 > 星球建造師 > 第102、103章 EVU聯盟(為閣昏曉及訂閱加更)

                    第102、103章 EVU聯盟(為閣昏曉及訂閱加更)(1 / 3)

                    “古川君?怎么了?”眾人疑惑的看著他。

                    古川太智說道:“就在剛剛,神州科學院宣布,他們已經突破了極紫外光刻膠生產技術,將開始大規模制造和生產高端光刻膠!”

                    “什么?”幾大集團的代表猛的站了起來,“這可不是能開玩笑的事情!”

                    “我沒有開玩笑!”古川太智說道,“神州的幾家光刻膠企業宣布,已經獲得技術授權,立刻建造廠房,開始生產!”

                    眾人見他語氣焦急,不像是說假話,立刻查詢資料。

                    很快,他們便看到了新聞消息。

                    “確認消息是真實的嗎?”東京應化集團的代表打電話詢問集團神州區域的總裁。

                    “是真實的,我們已經派人接觸了,他們還專門展示了樣品和相關數據!”對方回復道。

                    “怎么會這么快?”會場里,這些櫻花光刻膠企業的代表們面面相覷,他們停貨才一個月時間吧?

                    一個月,他們的技術優勢,產品壟斷,就沒了?

                    就連青木大貴也懵了,要真是這樣,他們豈不是搬起石頭砸了自己的腳?

                    他們剛剛退出神州市場,神州就有了自己的高端光刻膠,這不是白白把市場份額給讓出去嗎?世界上還有這么蠢的事情?

                    “八嘎!”JSR的代表怒罵道,“這可是一年百億美金的市場,就因為愚蠢的協議,拱手讓人了?”

                    青木大貴也不敢隨便說話,這些跨國集團的能量也不小,他只能心虛的說道:“也許他們早就突破了這個技術,現在才公布而已。”

                    “不!”古川太智憤怒道,“這完全是你們的愚蠢協議導致的!”

                    “我得到消息,就因為這件事,神州調集了全國的專家,聯合了上萬家企業一起研發,所以進度才這么快!正常情況下,他們絕不可能這么快突破極紫外光刻膠技術!”

                    聽到古川太智的話,其他代表紛紛對青木大貴怒目而視。他們用了幾十年的時候,和燈國的企業競爭,好不容易奠定了光刻膠國際龍頭的地位,沒想到一個月之內,就被人趕超!

                    這一切,都是那什么“全面合作”協議導致的!

                    “青木君,我們需要一個解釋!”JSR的代表說道。

                    “我們的損失,是櫻花國的管理者造成的!他必須拿出解決方案!”東京應化的代表說道。

                    “我們集團會發出抗議書的!”富士膠片的代表冷聲說道,他們說的抗議,不是讓員工上街抗議,而是在更高層級的級別博弈。

                    這些大資本和櫻花島管理方有著千絲萬縷的聯系,青木大貴背后冷汗直冒,他知道,自己這一派,已經得罪了一個大資本集團!

                    到時候,肯定要有人背鍋,平息他們的怒火,自己很可能成為背鍋俠!

                    “為什么,這才一個月啊!”青木大貴心里在吶喊,這個技術突破再晚幾個月,神州一定會讓步的,可為什么會這么快?

                    ……

                    極紫外光刻膠的突破,代表了光刻機和芯片制造最關鍵的材料問題已經解決。

                    同時,盧建業的團隊已經打磨出了極紫外光刻機所需要的“鏡頭”。這玩意在以前,也是花錢都買不到的產品之一,只有漢斯的蔡司公司才能制造,而現在,神州已經能自己制造了。

                    其他的高端零部件,也在同步制造中。

                    芯片設計上,反而比較簡單。神州本來就能設計出高精密的芯片,只是沒法制造出來。何星舟稍加改進,便完成了3納米制程芯片的設計。

                    現在距離極紫外光刻機制造,以及3納米制程芯片的生產,只剩下最后一個問題——極紫外光刀!

                    何星舟來到了光電研究所,跟嚴蕊院士的團隊一起研究。

                    激光研究室里,嚴蕊正在講述他們遇到的問題:“我們現在是采用氣體噴射的方式用激光轟擊靶材料產生等離子體,等離子體發EUV輻射,EUV輻射經過由周期性多層薄膜反射鏡組成的聚焦系統入射到反射掩模上.射出的EUV光波再通過反射鏡組成的投影系統,將反射掩模上的集成電路的幾何圖形成像到硅片上的光刻膠中,從而形成集成電路所需要的光刻圖形。”

                    “理論上,這個過程沒有問題。”何星舟點點頭。

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